上海微电子的28nm光刻机现在到底怎么样了？
近期唯一的消息是去年下半年试装失败……
都知道光刻机是很多组建拼装到一起的一个高端工业的结晶。组建非常之多，上海微电子其实只是组装适配。
但是组装失败了，目前估计就是在推导验证到底是哪里的问题，需要怎么改。搞不好22年出不来了
关于科学技术方面，我认为要大副提高科学技术人员的话语权。而不是让每个技术人员都被一个不懂技术，但是心思不正别的专业的头头压着。技术人员的脑子基本上都比那些有花花心思不的人更爱国。一头钻在技术研究中，没有心思去想别的。但是现在却是科学技术人员在大部分企业都过的很委屈。
目前外面流出来的消息不太多，不过上海微电子作为一家公司，如果研发成功一定会官宣，现在没消息只能说至少还没有到官宣的阶段。
据说去年评审没通过，内情不知，一台DUV光刻机也是非常复杂的，很多东西不是有了理论和设计就能解决的，里面有太多经验值，这个只能靠时间积累，没有捷径！
希望尽快能有好消息，也有可能正在试车中，不过还有问题，没有达到商用状态，总之，希望在不久将来能看到上海微电子DUV光刻机面世！
28纳米光刻机现在肯定是还没有交付，要不然，别说上海微电子和其客户都会官宣，各大媒体都会作为头条来报道，而且会提前报道最新的相关消息，明知道国人比以往的任何时候都关注嘛，更为关注的是国产EUV光刻机的研制将从什么时候开启！
关于“到底怎么样”的消息一直有。既有笼统的，又有详细的；既有自媒体人的爆料，比如近日某自媒体人在网上说，“某论坛称”上海微电子已经接到了订单、安排了生产，可谓有鼻子有眼儿，按这么说接下来的事就是“交付”了，又有业界权威人士的“曝光”，比如中科院***院士，于2020年12月26日下午，在为十三届全国人大常委***作的题为《世界科技前沿发展态势》专题讲座中说，“在国家重大科技专项的支持下，我们国家在光刻机领域取得长足进步，目前已在开展面向28nm工艺节点的193nm波长的光刻机研制攻关。但在极紫外光刻机方面，我们还有很长的路要走。中国科学院已部署新技术路线光刻机的研制”。《世界科技前沿发展态势》这篇文章在第二年的1月17日，被远望智库整版转载在其《战略前沿技术》公众号上。
怎么看待***院士的“曝光”？尽管笼统（在那种场合下，也没必要说得很细），却是完全可信的，告诉的是截至当时到底了的实际情况！重点在于，28nm光刻机整机研制要走的路已经没剩多长了，完全可以很快就走到，攻关完成之日便是路程全部走完之时，而且，以上海微电子为主就可以全部搞定，中国科学院系统可以转向高端国产光刻机的研制了，重点转移、另辟蹊径，路程将比研制传统路线光刻机要短，这是个更好的消息！这样一来，院士的这个曝光就与我前面所写的近日某自媒体人的爆料“连上”了，又与自媒体人另一个被广为传播的爆料“对上”了，该爆料是：“业内媒体”称，在2020年6月，上海微电子透露将在2021~2022年交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。
自媒体人前、后的爆料由于***院士的“居中”曝光就是可信的。共同让我们获知了28nm光刻机到现在为止的确切进展，并认为很快交付给客户、实现商用是无可置疑的，而国产高端光刻机的大幕其实在此之前就已经拉开！
