23届上海摄影展有索尼吗？
有的
上海第23届中国国际照相机械影像器材与技术博览会，带你们看看各家的特色，摄影器材还是佳能、尼康、富士、索尼占领头角，各家各有各的特色、当下各家主推的以微单为主，打造无反时代，轻便、快捷、高速等特点。
上海电气有光刻机吗？
上海电气集团是一家综合性的大型工业集团，其业务领域涵盖电力、城市轨道交通、环保、综合能源、工业自动化、物联网、大数据、机器人及人工智能等尖端科技领域，但没有生产光刻机。光刻机是一种用于微电子制造的精密设备，目前主要由少数几家公司生产，如荷兰的ASML、日本的尼康和佳能等。
关于光刻机，中国需要做哪些方面的突破？
ASML在荷兰，但最大持股人是米国，股东有台湾的台积电和三星等…将一堆沙子变成集成度这么高的芯片，才使得现在的手提电脑，智能手机等变得这么轻薄，这是人类智慧结晶的最高殿堂级产品，不是有钱就能买的，此公司产品也只卖股东，现在7纳米的晶体管已量产，5纳米和3纳米的正在研发，估计也很快量产，但国产的水平应该在20纳米左右，差距不是一只半点，我们需要的不仅仅是弯道超车，而可以汇聚更多的顶尖人才变道超车，阿里巴巴马云组建的达摩院就是以此为方向的一个科研机构。很多技术我们既然落后太多，与其花精力去追赶，还不如换个思路进行变道反超，从不同的方向找到一个可以取代它的产品就行了，能够找到可以取代它的技术，那米国再牛逼的技术，也将变得一文不值。就像汽油发动机取代蒸汽机，电车竞争油车一样。
原理中国当然掌握，中国90nm已经到2004年水平。要想达到荷兰光刻机水平，第一是光学技术，荷兰自己本身都没有这个水平，是拉德国蔡司入伙，是世界目前最顶级的光学水平，胜小日本一头。如果能达到水平，间谍卫星和相机📷镜头一定是世界一流。第二是光源，这个中国差距应该最小。第三精密加工，包括精密数控，中国目前是二流水平，这个也是德国和小日本水平一流。因为上述部件对中国都是禁运，所以中国没法象C919那样攒零件。而且注意到了吗，光学和精密加工日本技术都是一流，没错，日本的光刻机也是一流的，排在荷兰后面，但是，这个比赛只有第一才能获奖，台积电、韩国三星都是荷兰光刻机股东，中芯国际也是用荷兰产品，而且，中俄禁运日本也不能卖，所以，报导说日本已经不开发7nm的光刻机了，没有认真核实，
回答这个问题，不如先看下当前中国光刻机的现状(2018-2020)；我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。
2018年光刻机制造商的销售情况：
2018年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货374台，较2017年的294台增加80台，增长27.21%。ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收118.92亿欧元，较2017年增长25.21%。从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看，全年共出货134台。其中ASML出货120台，占有9成的市场。
2018年ASML光刻机出货224台，营收达82.76亿欧元，较2017年成长35.74%。其中EUV光刻机营收达18.86亿欧元，较2017年增加7.85亿欧元。EUV光刻机出货18台，较2017年增加7台；ArFi光刻机出货86台，较2017年增加10台；ArF光刻机出货16台，较2017年增加2台；KrF光刻机出货78台，增加7台；i-line光刻机出货26台，和2017年持平。2018年单台EUV平均售价1.04亿欧元，较2017年单台平均售价增长4%。而在2018年一季度和第四季的售价更是高达1.16亿欧元。目前全球知名厂商包括英特尔Intel、三星Samsung、台积电TSMC、SK海力士SK Hynix、联电UMC、格芯GF、中芯国际SMIC、华虹宏力、华力微等等全球一线公司都是ASML的客户。2018年中国已经进口多台ArFi光刻机，包括长江存储、华力微二期。
国际市场上傲视群雄的是荷兰【ASML】
目前我国最有名的光刻机制造商为【上海微电子】
ASMl成功的原因有哪些呢？资本，技术，市场这些都是ASML成功的核心要素。制造光刻机的难点在于很多产品零部件都需要很高的精度与技术门槛，如果放到一个国家来研制的话，可能性极小。光刻机现在被分为前道光刻机和后道光刻机这两种不同的方式，而真正具有难度的就是这个前道光刻机的制造技术，即便有图纸也很难制造出来。光刻机的难度主要体现在底片的制造，是用涂满光敏胶的硅片制作而成，这个工艺就非常的复杂，需要认为重复几十遍才可以制造而成。还有就是光刻机的镜头，据说是使用蔡司的技术打造而成的，而且所需要的时间都是几十年或者上百年才可以完成。这些还不是真正最难的部分，而真正最难的部分还是属于光源系统的来源，这也被称为整个光学工业中的明珠所在。研发过程是没有什么捷径可走的，精度只能一步步提升。没有一微米的基础，就不可能造90纳米的设备，没有90纳米的基础，就不可能造45纳米的设备。现在ASML的超高工艺精度，这个水平不是天上掉下来的，而是别人几十年一步一步逐渐积累出来的。
ASML正在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列，最快会于2021年面世。现在ASML销售的光刻机主要为NXE:3400B和改进型的NXE:3400C，结构上相似。差别在于NXE:3400C***用模块化设计，将平均维护时间从48小时缩短到8-10小时；NXE:3400C的产量也从125WPH提升到了175WPH。这两款EUV光刻机属于第一代，物镜系统的NA（数值孔径）为0.33。EXE:5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代，目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm，要想让技术尽快落地到实际，EXE:5000系列EUV光刻机的研发极为重要。不过最快可能也要于2023年或者2024年[_a***_]。
总结下，EUV技术实质上是通过提升技术成本来平衡工序成本和周期成本，EUV主要是从7nm开始，目前国内暂时没有这项技术的应用，国内集成电路某些特定领域还较为落后，尚未达到支撑研发EUV技术的先进水平。EUV产业化过程中最大的挑战主要来自于光源和持续生产率，除此之外，耗电量和曝光速度也还需要征服和挑战！
尽管EUV现在还存在各种障碍，但是从长远角度来看，中国持续发展EUV技术还是非常必要的！
