升仕350d上市时间？
2022年7月。
升仕350d是一款 HDMI 接收芯片，它兼容 HDMI1.4b 及 HDMI 1.4b 下的视频 3D 传输格式。其参数可以支持的最高分辨率高达 4K30Hz，最高***样率达到 300MHz.MS7200 支持 YUV 和 RGB 之间的色彩空间转换，数字接口支持 YUV 以及 RGB 格式输出。
光刻机和蚀刻机有什么区别？
最近中兴***作为导火索，引发了国人关于芯片讨论，其中不免涉及到了芯片制造业两大至关重要的技术，蚀刻机和光刻机，作为一个业余爱好者，我为大家分享一下我知道的东西。
什么是光刻机
光刻机作为制造芯片的核心装备之一，因为用途的不同，分为生产芯片的光刻机，用于封装的光刻机，还有LED领域的投影光刻机，目前主要讨论的是用于生产芯片的光刻机，这也是芯片领域，我国最薄弱的环节。
先了解一下光刻中必须要用的东西——光刻胶，简单的来说这种胶状物，只能被光腐蚀，而不能被化学物质腐蚀，制造芯片时讲光刻胶涂在金属表面，然后用光把不需要的地方腐蚀掉，制作出自己需要的图形（电路结构之类的），接下来就该蚀刻机上场了。
什么是蚀刻机
蚀刻分为两类，一类是干刻，一类是湿刻（目前主流），湿刻就是特定的化学溶液与上个部分光刻机制作后的薄膜发生反应，发生反应过后剩下的东西，就是需要的东西了，这个过程有液体接触，所以叫湿刻。
干刻更加高级，目前并没有大规模应用，它是通过等离子电浆去除未覆盖的薄膜。
光刻机 ASML一枝独秀
以前光刻机领域还有佳能尼康制衡ASML，不过随着技术差距越来越多，目前高端光刻机市场被ASML垄断，7nm级别光刻机17年的产量只有12台，一台1.2亿美元，还要提前21个月预订，中国就算排队，也不知道哪年买得到，背地里还有有些国家作怪，目前国产光刻机还处于90nm阶段，任重道远。
五大蚀刻机厂商 中微是其一
目前能生产7nm级别蚀刻机的有应用材料，科林研发，东京威力科创，日立先端，中微半导体五家公司，中微是唯一一家中国企业，并且已经开始向台积电供货，中微也代表着中国顶尖的半导体技术。
中国半导体起步晚，需要走的路还很长，不过中国人最不缺的就是毅力，只有坚持不懈方能厚积薄发。
光刻机：光刻机按照用途划分，有被厂商用于生产芯片的前道光刻机，有被厂商用于封装的后道光刻机（封装光刻机），有被厂商用于制造LED产品的投影光刻机。一般地，我们时常所谈到的光刻机，指的是前道光刻机。厂商在生产芯片的过程中，需要利用光刻机将掩膜版（台湾业者们称作光罩）上的电路图形“复印”到硅晶圆片上。光刻工艺，指的是厂商在平整的硅片上构建半导体MOS管和电路的基础，利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将掩膜版上的电路图形传递到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。由于在晶圆的表面上，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻工艺也是芯片制造中最核心的环节。光刻工艺的价值巨大，整个光刻工艺的设备有匀胶显影设备和光刻设备，光设机的价格是最昂贵的。在行业中有影响力的光刻机制造厂商包括荷兰的ASML，日本的尼康和佳能等。
光刻机：光刻机按照用途划分，有被厂商用于生产芯片的前道光刻机，有被厂商用于封装的后道光刻机（封装光刻机），有被厂商用于制造LED产品的投影光刻机。一般地，我们时常所谈到的光刻机，指的是前道光刻机。厂商在生产芯片的过程中，需要利用光刻机将掩膜版（台湾业者们称作光罩）上的电路图形“复印”到硅晶圆片上。光刻工艺，指的是厂商在平整的硅片上构建半导体MOS管和电路的基础，利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将掩膜版上的电路图形传递到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。由于在晶圆的表面上，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻工艺也是芯片制造中最核心的环节。光刻工艺的价值巨大，整个光刻工艺的设备有匀胶显影设备和光刻设备，光设机的价格是最昂贵的。在行业中有影响力的光刻机制造厂商包括荷兰的ASML，日本的尼康和佳能等。
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